SN-ZK-100D
100L大型真空等离子清洗机设备
无论是金属、玻璃、陶瓷、塑料、橡胶,亦或是高分子、复合材料,都可用等离子体进行很好地表面处理。特别是一些不耐热和不耐溶剂的材料,用大型真空等离子清洗机设备进行表面更是有它的独到之处。
Parameter
规格参数
品牌 | ShenNa·深那 | 型号 | SN-ZK-100D |
腔体容量 | 100L | 腔体尺寸 | 400*H400*625mm |
频率 | 40kHz | 功率 | 1000W |
13.56MHz | 300W | ||
电极层数 | 1-4层 | 气体通道 | 2-4通道MFC |
真空度 | 真空计 | 1*10-2~1*105 | |
气体接口 | I.D4mm;O.D6mm | 控制系列 | 10寸PLC触摸屏(手动/自动) |
主机尺寸 | 800*850*1800mm | 电源 | 380V/16A |
附件 | 真空泵1台(干泵或油泵)、波纹管1条 | ||
气体 | 氧气、氮气、氩气、氢气或混合气体 |
Particulars
产品详情
SN-ZK-100D大型真空等离子清洗机设备功能特点
1、供气系统采用高精度流量计,可精确调节工作气体的流量;
2、多个气体通道设计,最大化地实现不同气体及混合气体的使用需求;
3、采用高稳定性的真空泵(干泵或油泵),可以实现废气的均衡排放;
4、具备灵活的工艺参数设定能力,为各行业提供不同等离子体生成条件,使清洗效果最优化;
5、可根据不同需求选择电极板的极性与间距,获得最合适的等离子体;
6、先进的电源匹配系统来调节负载阻抗,保证最佳的等离子体密度和可重复性。
应用场景
电子行业:电子元器件灌装前活化;邦定板清洗
医疗行业:生物材料活化;体内和体外医疗器械表面处理
光学光电:镜片清洗;提高隐形眼镜浸润性;ITO面板清洁活化
电子行业:去除孔内胶渣、碳化物等;特氟隆活化;线路板表面清洁
半导体行业:硅片、晶圆光刻胶去除;引线焊接前清洁;芯片底部填充表面预处理
大型真空等离子清洗机设备等离子清洗设备广泛地应用于半导体、电子、光学光电、生物医疗、汽车、航空航天、科研及其他通用工业领域工件表面清洗、喷涂、改性、刻蚀等。