等离子体涂覆，其工艺要求高，比前面三种工艺技术都要复杂一些，等离子体涂覆分为低压等离子体涂覆和常压等离子体涂覆。
低压等离子体涂覆：需要在真空密闭腔室里面导入单体（也就是涂层，无论是气态或液态都可以），然后单体会在等离子体的影响下发生聚合反应。通过等离子体聚合所得到的层厚度在一个微米范围之内。
常压等离子体涂覆：需要借助载气以气体的形式将单体直接通入等离子射流中。这样，单体便可以借助等离子体集中于表面上，并发生聚合反应，涂层厚度可达到几百纳米。
针对等离子体的涂覆，当下已经被大规模运用的涂覆方法有三种：
1、疏水涂层：例如，六甲基二硅氧烷 (HMDSO)。
2、PTFE类涂层：含氟工艺气体。
3、亲水涂层：乙酸乙烯酯，六甲基二硅氧烷定义为与氧气混合。